Materials Studio 2024 是一款专为材料设计领域打造的强大工具，涵盖催化剂、高分子材料、纳米技术和电子器件优化等多个前沿研究方向。这款软件整合了多个功能模块，从电子结构解析到宏观性能预测，能够满足不同尺度的科研需求。相比之前版本，2024 版本在功能上有了不少提升，比如新增了有效屏蔽介质（ESM）选项，支持带电平板系统的模拟，减少了对真空区域的需求；还引入了 DFT-D4 半经验色散校正，提升了分子晶体和范德华相互作用的模拟精度。此外，软件还增强了对 NVIDIA GPU 的支持，并优化了计算效率。
DMol3 模块新增了 ESM 选项，支持金属边界反射系统，允许分析带电系统；DFTB+ 现在使用 ELPA 特征值求解器，支持 GPU 加速，适合大规模模拟。CASTEP 模块引入了 DFT-D4 校正，提升了分子晶体的模拟精度。这些功能升级让 Materials Studio 2024 成为了科研和工业应用中的利器。如果你正在做材料模拟或相关研究，这款软件绝对值得一试！
Materials Studio2024是专用于催化剂设计、高分子材料研发、纳米技术及电子器件优化等领域的一款材料设计领域的核心产品。在软件内融合数十种的功能模块，其中包括Mesocite、ONETEP、GULP、Forcite等多个方面，实现电子结构解析到宏观性能预测的全尺度科学研究。
值得一提的是，在Materials Studio2024中还新增了不少的特色功能，并对一些功能进行了全面的升级优化，致力于为用户提供切实可靠的数据信息，帮助用户快速解决工作上的难题疑点。对此，有需要的用户欢迎来本站免费下载体验。
Materials Studio2024软件新增功能
1、有效屏蔽介质（ESM）选项，支持带电平板系统模拟（如电池电极界面），通过非周期性静电场边界条件替代周期性边界条件，减少真空区域需求，支持栅极效应和偏置系统分析。
2、支持 DFT-D4 半经验色散校正，提升分子晶体和范德华相互作用系统的模拟精度。
3、扩展对 NVIDIA GPU 的支持，优化电场计算和压力分析效率；新增物种分布计数、浓度剖面图导出为 CSV 文件等分析工具。
4、新增 ReaxFF SEI2021 库，支持电场下的可变电荷模型计算，可模拟表面-电解质间相（如锂离子电池中的界面反应）。
5、引入大正则系综模拟，用于模拟具有电子数量可变和固定外部电位的系统，与电极-电解质界面的电化学研究特别相关。
Materials Studio模块增强
1、DMol3
我们现在可以在DMol3中使用有效筛选介质（ESM）选项。ESM选项将z方向的周期边界条件替换为单元格边界的筛选介质，形式为真空或金属。金属边界反射系统中的任何电荷，允许分析一个带电系统。DMol3将金属边界的电势固定在0电子伏特。然而，对于金属-金属系统，我们可以添加一个电场以在金属表面之间施加偏压。
2、DFTB+
DFTB+现在使用版本22.2，其中包括ELPA特征值求解器。这个求解器对于大型系统和大规模并行超级计算机具有良好的扩展性，对于较小的系统也表现出了极高的效率。ELPA求解器支持GPU加速选项，为大型系统提供了显著的额外性能提升。GPU加速也支持使用多个GPU。
我们可以在DFTB+计算对话框、MaterialsScript以及Pipeline Pilot Materials Studio Collection中的DFTB+组件上访问ELPA求解器。
3、CASTEP
CASTEP模块现在包括DFT-D4半经验色散校正。这比多体色散校正，MBD*，更快，并且为分子晶体和其他范德华尔斯系统产生准确的结构和能量。
CCDC Materials Studio与CCDC工具的集成现在支持CSD 2023安装。
4、COMPASS
Materials Studio现在包括对COMPASS III力场电荷的更新，特别是对氨离子（NH4+）的n4+和h1+力场类型的键增量。
软件亮点
1、ESM 选项：在 DMol3 模块中新增 ESM 选项，支持带电平板系统模拟，减少真空区域需求，支持栅极效应和偏置系统分析。
2、ReaxFF SEI2021 库：在 GULP 模块中新增 ReaxFF SEI2021 库，支持电场下的可变电荷模型计算，模拟表面-电解质间相。
3、DFTB+ GPU 加速：支持 ELPA 特征值求解器的 GPU 加速，提升纳米颗粒和电池材料的大规模模拟效率。
4、Forcite 与 Mesocite GPU 支持：扩展对 NVIDIA GPU 的支持，优化电场计算和压力分析性能。
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